近紅外光的微影曝光技術(shù)。近紅外線(xiàn)光的透過(guò)性高，具有即使是厚膜光阻.將新技術(shù)應(yīng)用於黑色光阻，並展開(kāi)在次世代顯示器用途的應(yīng)用開(kāi)發(fā)。利用波長(zhǎng)比可見(jiàn)光更長(zhǎng)之近紅外光(700～1,000 nm)微影曝光技術(shù).對(duì)近紅外光有反應(yīng)的敏化染料，成功地實(shí)現(xiàn)了近紅外線(xiàn)曝光。敏化染料吸收了近紅外光的能量，被激發(fā)的能量傳導(dǎo)至光反應(yīng)物質(zhì)，進(jìn)而產(chǎn)生了近紅外光的光反應(yīng).近紅外光的適用目 標(biāo)設(shè)定在於膜厚2μm以上的曝光。